招聘信息

急聘!高分子系微电子材料课题组博士后(金属有机方向)

发布时间:2018-09-19 

薪金:年薪18W+

学历和研究方向:金属有机背景,熟悉烯烃聚合、茂金属催化聚合的博士

【课题组简介】
      导师简介:

      邓海博士,国家千人特聘专家,复旦大学高分子科学系,聚合物分子工程国家重点实验室,教授,博士生导师。师从活性自由基聚合和活性阳离子聚合的先驱者Sawamoto教授,曾在美国Akron大学高分子系、加州伯克利大学化学系深造,关于立体可控聚合的研究成果收录在美国的教科书中。此外,邓教授拥有丰富的产业经验,特别是乳液聚合、半导体光刻材料的研发经验。曾任美国罗门哈斯公司(现为陶氏化学公司)高级研究员、美国英特尔公司材料部门高级主管,东京应用化学公司Fellow。

主要研究领域有:

      主攻下一代半导体制程用的光刻材料,特别是10 nm以下分辨率材料的设计合成及应用。课题组受到国家及企业的大力支持,研究经费充足,拥有完善的光刻材料的合成,表征及性能测试平台。目前已经攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物纳米材料。

课题组主页: http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/ 

【课题背景简介】
      半导体制造中最关键的材料是光刻胶,有多高分辨率的光刻胶就能造出多小的器件。过去的50年内,半导体产业一直沿着Moore’s law前行。Intel、台积电和三星微电子都已进入了7 nm分辨率的EUV光刻工艺,并将很快进行量产。面对半导体芯片领域向更小、更快和更高密度方向发展的趋势,下一代 10~5 nm 半导体制程的光刻技术和材料已成为全球半导体行业的研发热点。

      目前国内的半导体工艺研发也进入了14 nm制程,国内只能量产低端的i-线光刻材料(国外30年前的产品),国内的高端光刻胶产业几乎处于空白状态,所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本进口。

      下一代10 nm及以下半导体制造所需的EUVL和DSA光刻材料,目前被美国和日本企业所垄断。为了不再受制于人,我国急需研发探索10纳米以下的下一代光刻材料来打破了技术壁垒,实现弯道超车。目前本组已研发出世界上最快速自组装的、5 nm超高分辨率的DSA材料,该成果已发表在SPIE(美国光电协会)等国际会议上,受到广泛好评。为了更好地保护本组知识产权,目前已申请了若干中国及美国专利,相关论文正在整理之中。

【招聘基本要求】

由于科研工作需要,本课题组招聘博士后研究员1~2名,进行10纳米以下的下一代光刻材料的研究,具体要求如下:

1、金属有机背景,熟悉烯烃聚合、茂金属催化聚合的博士或有相关合成研究工作经验的博士(应届的或者有工作经验的)。
2、具有良好的英文阅读和写作能力,能快速查阅外文文献,已发表过相关领域英文论文。
3、需要具有一定的指导学生的能力。将会带领在读的硕士、博士生进行项目攻关,身体力行地带领团队研发出新型的高分辨率DSA或含金属EUV光刻材料。

4. 性格开朗,有个人魅力。最好是体育爱好者。

【职业规划方向】

      本课题组与国内外的知名企业有广泛的合作,可以为候选人提供未来事业发展的支持,可以优先推荐给陶氏化学、上海新阳半导体、中芯国际等公司。
【个人待遇】
      课题组为入选者提供优越的科研条件和稳定的支持,按照复旦大学有关博士后的规定提供相应个人待遇,课题组根据研究进展和贡献给予补贴,年薪18万起。住房:复旦大学根据申请者要求,提供学校附近一室或二室住房,租金约为市场价格一半。

【应聘申请材料】
请应聘者将申请材料(简历和代表论文全文)发至haideng@fudan.edu.cn。

【招聘时间】

申请时间为2018年9~11月。

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